本实用新型涉及太阳电池的生产技术领域,具体涉及一种用于提升PECVD镀膜均匀性的装置,包括沉积腔、射频电极和进气系统,还包括设置于沉积腔下方的真空系统,沉积腔为管式真空腔体,进气系统采用纵向进气的方式,包括位于沉积腔一侧的进气装置。
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已有0人评价 浏览:556次 下载:22次 贡献者: Elvin314 标签:PECVD 镀膜 分类: 太阳能光伏
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