纳米光波导光滑技术研究进展随着半导体工业的发展，集成光电器件的特征尺寸越来越小，纳米光波导表面光滑技术将面临新的挑战。降低纳米光波导表面粗糙度，制造超低损耗纳米光波导，实现其高效片间光互连与片内光耦合，是集成光电子器件，特别是高灵敏微陀螺、生化传感器、光通讯等器件发展的关键。主要分析了光波导表面粗糙度与传播损耗的关系，着重阐述纳米光波导表面光滑工艺方法，包括热氧化法、氢退火法及激光束法的研究现状及最新进展，总结了各类工艺的
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