TP(触摸屏)原理及制作流程
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光刻加工与光刻技术
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光刻技术的发展
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本文介绍光刻工艺的种类与发展
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本文介绍光刻技术的现状和发展
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本文介绍亚洲最大的显示器国际会议“22th International Display Workshops（IDW ‘15）”上，关于氧化物半导体TFT的脱真空、脱光刻“绿色工艺”，以及TFT特性的主题演讲。
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本文介绍亚洲最大的显示器国际会议“22th International Display Workshops（IDW ‘15）”上，关于氧化物半导体TFT的脱真空、脱光刻“绿色工艺”，以及TFT特性的主题演讲。过去，此类主题的演讲大都来自研究机构，这次还出现了厂商。
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本文制备具有16 个发光单元串联的HVLED芯片，采用光刻胶和SiO2双层掩膜使刻蚀后的隔离沟槽的侧壁平缓以便于电极连接，研究了隔离沟槽宽度对芯片电学性能和光学性 能的影响。使用商品化的镜面铝基板和陶瓷基板对HVLED进行封装，研究了注入电流、温度、基板对器件电学性能和光学性能的影响。
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外延片→清洗→镀透明电极层→透明电极图形光刻→腐蚀→去胶→平台图形光刻→干法刻蚀→去胶→退火→SiO2沉积→窗口图形光刻→SiO2腐蚀→去胶→N极图形光刻→预清洗→镀膜→剥离→退火→P极图形光刻→镀膜→剥离→研磨→切割→芯片→成品测试。
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市场对精细结构需求的增长，使得微流体技术在诸多领域的应用和研究更为深入，如化学、生物、医药、物理、成像学以及生命科学等。LPKF ProtoLaser LDI能够在实验室内完成更加柔性且快速的微流体通道样品的制作。
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极紫外光刻(EUVL)技术已经酝酿了超过四分之一个世纪，去年第一台EUVL生产工具已经交付客户，芯片制造商和供应商正在试生产线上日趋完善这项技术以备日后的大规模批量生产(HVM)。
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研究人员在提升金属强度的实验过程中有了意外收获，他们利用脉冲激光束照射在石墨层，制备出了纳米金刚石薄膜（nanodiamond films）并实现了光刻烧蚀。
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纳昇电子的印刷电子设备分为桌面多功能级与高精密级两类，包括有狭缝涂布模块、超声喷涂模块和刮涂模块，并逐步发展为卷对卷印刷电子涂布系统，以及中小型印刷电子涂布装备。针对实验室、高校机构和企业研发中心的各种纳米及亚微米级功能性涂层薄膜的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。针对实验室、高校机构和企业研发中心的各种纳米及亚微米级功能性涂层薄膜的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。涉
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光刻蚀是目前的CPU制造过程当中工艺非常复杂的一个步骤，为什么这么说呢？光刻蚀过程就是使用一定波长的光在感光层中刻出相应的刻痕，由此改变该处材料的化学特性。这项技术对于所用光的波长要求极为严格，刻蚀过程还会受到晶圆上的污点的影响。每一步刻蚀都是一个复杂而精细的过程。
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提起3D打印，很多人一定会认为，这是一个非常新的技术，但是事实上并不是这样。3D打印技术的历史，并不比喷墨打印短多少，它诞生于1986年。将数字化的3D图形转化成为物理实物，这一想法最早是由美国人查尔斯.豪尔申请的专利（Charles W.
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