光刻蚀是目前的CPU制造过程当中工艺非常复杂的一个步骤，为什么这么说呢？光刻蚀过程就是使用一定波长的光在感光层中刻出相应的刻痕，由此改变该处材料的化学特性。这项技术对于所用光的波长要求极为严格，刻蚀过程还会受到晶圆上的污点的影响。每一步刻蚀都是一个复杂而精细的过程。
0 | 上传人：huangyan94 2014-08-11 11:43:56 | 热度： 格式：pdf 3989篇相似文档
未设置昵称 2023-04-13 17:58:57安全生产隐患排查治理信息化系统软件
PDPI 2022-09-15 15:19:37培养“新工科”人才，安徽工程大学与天马微电子签订战略合作协议
奇偶派 2021-11-24 13:41:19小米财报
a14594260 2021-09-15 19:16:20隐患排查和煤矿化工安全生产预警系统软件解决方案
技术宅 2021-09-10 11:19:06有金属衬底的钢网如何高效设计
极紫外光刻(EUVL)技术已经酝酿了超过四分之一个世纪，去年第一台EUVL生产工具已经交付客户，芯片制造商和供应商正在试生产线上日趋完善这项技术以备日后的大规模批量生产(HVM)。
0 | 上传人：Elena_D 2014-12-31 15:13:55 | 热度： 格式：doc 856篇相似文档
Pb4f592215 2023-11-03 14:03:01两种尺寸TiC颗粒对线材和电弧增材制造Al-Cu合金延展性--强度协同作用的影响
dengqiuxia 2019-07-26 09:54:392019年宝安区五类百强企业名单库
安徽宇锋 2019-05-03 13:36:35仓储王者—三向堆垛叉车AGV
飞翔 2019-03-09 20:29:33CO2 激光器详解
安徽宇锋 2019-03-07 11:57:35三向堆高叉车起重系统一般故障分析与处理
纳昇电子的印刷电子设备分为桌面多功能级与高精密级两类，包括有狭缝涂布模块、超声喷涂模块和刮涂模块，并逐步发展为卷对卷印刷电子涂布系统，以及中小型印刷电子涂布装备。针对实验室、高校机构和企业研发中心的各种纳米及亚微米级功能性涂层薄膜的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。针对实验室、高校机构和企业研发中心的各种纳米及亚微米级功能性涂层薄膜的涂布试验、墨水调试、工艺研究、小规模制样研发等。涉
0 | 上传人：纳昇电子 2014-10-09 17:13:33 | 热度： 格式：pdf 1759篇相似文档
未设置昵称 2022-09-21 10:22:44Real World Storage Workload来优化您的SSD/存储系统及上层软件
德堃科技 2022-08-04 10:21:47DK23DN温度过程控制仪表220419
德堃科技 2022-08-03 17:05:52DK6500L系列三相TFT液晶多功能仪表
数字农业新农人 2022-07-30 13:16:02不同类型谷物选筛的介绍
数字农业新农人 2022-07-28 15:37:24多功能土壤养分测试仪的功能参数介绍
