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平面光波导技术及其器件发展趋势分析
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平面光波导技术及其器件发展趋势分析

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近化学计量比Ti:PPLN平面光波导
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近化学计量比Ti:PPLN平面光波导

使用钛扩散的方法在z切铌酸锂(LiNb0,)基片上制备平面光波导,并进行富锂气相输运平衡(VTE)处理,获得平面光波导。利用外加电场法对其周期极化,制备出近化学计量比钛扩散周期极化铌酸锂(Ti:PPLN)平面光波导。对近化学计量比Ti:PPLN平面光波导的制备方法及工艺进行深入研究,为制备近化学计量比Ti:PPLN条波导奠定基础。

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Y分支平面波导型光分路器的研制
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Y分支平面波导型光分路器的研制

研制了Y分支平面波导型光分路器,采用半导体工艺制备了1×8平面光波导芯片,经过耦合对准和黏接完成了芯片的封装。对研制的平面波导型光分路器在1 270~1 570 nm波长范围内的插入损耗进行了测量,在该波长范围内插入损耗曲线较平坦。这表明平面波导型光分路器的插入损耗在所测试波段对波长不敏感,而熔融拉锥型光分路器的插入损耗曲线表现出明显的窗12限制。同时对l 310、1 550

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平面光波导器件及应用分析
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平面光波导器件及应用分析

分析了平面光波导器件的关键技术及其应用情况.介绍了平面光波导器件的几种不同种类,包括硅基体沉积二氧化硅光波导,铌酸锂镀金属膜光波导,聚合物(Polymer)光波导等组成.利用平面光波导技术,可制造出波分复用器、解复用器、光开关、耦合器、阵列波导光栅等各种不同的集成光学器件.

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